K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs
K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir būtisks fotogrāfiem, kuri vēlas aizsargāt objektīvus un uzlabot attēla kvalitāti. Tas ir paredzēts 62 mm vītnei un aizsargā pret putekļiem, netīrumiem un pirkstu nospiedumiem, vienlaikus samazinot kaitīgo UV starojuma ietekmi.
Galvenās funkcijas
- Objektīva aizsardzība Aizsargā pret putekļiem, netīrumiem un mehāniskiem bojājumiem.
- Uzlabota fotoattēlu kvalitāte Samazina atmosfēras miglojumu, ideāli piemērots ainavu fotografēšanai.
- Augstākās kvalitātes optiskais stikls Izgatavots no AGC HD optiskā stikla, kas nodrošina izcilu asumu un krāsu atveidi.
- NANOTEC pārklājums 28 slāņu pārklājums, kas samazina atspīdumus un nodrošina 99,6 % gaismas caurlaidību.
- Hidrofobās īpašības Uztur filtru tīru, atgrūdot ūdeni un taukus.
- Īpaši plāns rāmis Tikai 3,3 mm biezais rāmis novērš vinjetēšanu ar platleņķa objektīviem.
- Aizsargvāciņš Komplektā ir praktisks vāciņš drošai glabāšanai.
Uzlabojiet savu fotogrāfiju
Šis UV filtrs ne tikai aizsargā jūsu objektīvu, bet arī uzlabo fotogrāfiju skaidrību, darbojoties kā neredzama barjera pret UV stariem. Uzlabotais optiskais stikls nodrošina izturību un izcilu gaismas caurlaidību, padarot to par uzticamu izvēli jebkuram fotogrāfam.
Specifikācijas
- Modelis K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs - 62 mm
- Materiāls Gaisa kuģu alumīnija sakausējums
- Pārklājums NANOTEC (28 slāņi)
- Caurlaidība 99,6
- Biezums 3,3 mm
- Vītnes diametrs 62 mm
Uzlabojiet savu fototehniku ar K&F Concept Nano-X MRC UV filtru, lai uzlabotu aizsardzību un attēla kvalitāti.
Jūsu ziņa ir nosūtīta, mēs noteikti Jums atbildēsim
Jūsu pasūtījums ir saņemts