K&F Concept Nano-X MRC UV filter - 49 mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs

K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs ir svarīgs fotogrāfiem, kuri vēlas aizsargāt objektīvus un uzlabot attēla kvalitāti. Paredzēts 49 mm vītnei, tas aizsargā pret putekļiem, netīrumiem un pirkstu nospiedumiem, vienlaikus samazinot kaitīgo UV starojuma ietekmi.

Galvenās funkcijas

• Objektīva aizsardzība Aizsargā pret putekļiem, netīrumiem un skrāpējumiem.
• UV starojuma samazināšana Samazina miglojumu un uzlabo fotoattēlu skaidrību.
• Augstākās kvalitātes optiskais stikls Izgatavots no AGC HD optiskā stikla, kas nodrošina asumu un krāsu precizitāti.
• NANOTEC pārklājums 28 slāņu pārklājums atspīdumu samazināšanai un vieglai tīrīšanai.
• Īpaši plāns rāmis Tikai 3,3 mm, kas novērš vinjetēšanu ar platleņķa objektīviem.
• Iekļautsaizsargvāciņš drošai glabāšanai.

Uzlabojiet savu fotogrāfiju

Šis UV filtrs ne tikai aizsargā jūsu objektīvu, bet arī uzlabo fotoattēlu kvalitāti, samazinot atmosfēras miglojumu, uzlabojot kontrastu un skaidrību. Tā uzlabotais optiskais stikls nodrošina izturību un lielisku gaismas caurlaidību, padarot to par uzticamu izvēli jebkuram fotogrāfam.

Specifikācijas

• Modelis K&F Concept Nano-X MRC UV filtrs - 49 mm
• Materiāls Gaisa kuģu alumīnija sakausējums
• Pārklājums NANOTEC (28 slāņi)
• Caurlaidība 99,6
• Biezums 3,3 mm

Uzlabojiet savu fototehniku ar K&F Concept Nano-X MRC UV filtru, kas nodrošina izcilu objektīva aizsardzību un attēla kvalitāti.