Jauns
K&F Concept Nano-C HMC CPL - 58 mm ir riņķveida polarizācijas filtrs, kas paredzēts, lai novērstu atspīdumus un uzlabotu fotoattēlu kvalitāti. Daudzslāņu HMC pārklājums efektīvi samazina atspīdumus, nodrošinot skaidrus un tīrus attēlus. Ergonomiskā poguļa ļauj precīzi regulēt polarizācijas efektu atbilstoši jūsu vajadzībām. Izgatavots no Japānas optiskā stikla, tas nodrošina lielisku gaismas caurlaidību. 5 mm plānais rāmis novērš vinjeti. Tas ir saderīgs ar objektīviem ar 58 mm filtra vītni, un tam ir aizsargvāciņš.
Novērst nevēlamus atspīdumus un uzlabot kontrastu fotogrāfijās ar K&F Concept Nano-C HMC CPL cirkulāro polarizācijas filtru. Viegli regulējiet polarizācijas efektu, lai kontrolētu atspīdumus un uzlabotu attēlu kvalitāti.
Pagrieziet gredzenu, lai precīzi regulētu polarizācijas efektu. Uzlabojiet zilas debesis, zaļumu un samaziniet atstaroto gaismu, lai uzņemtu skaidras un kontrastējošas fotogrāfijas.
Tehnoloģija Hard Multi-Coated (HMC) samazina atspīdumus, atspīdumus un atspīdumus, uzlabojot attēlu kvalitāti. Filtra daudzslāņu pārklājums uzlabo fotogrāfiju kontrastu un skaidrību.
Japānas optiskais stikls nodrošina izcilu gaismas caurlaidību un ilglaicīgu lietošanu. Filtrs novērš nevēlamus gaismas efektus, nodrošinot skaistas un skaidras fotogrāfijas.
5 mm plānais rāmis novērš vinjetēšanu, nodrošinot skaidrus un asus attēlus bez aptumšojuma malās neatkarīgi no izmantotā objektīva.
Savietojams ar objektīviem ar 58 mm filtra stiprinājuma vītni.